第136回日本森林学会大会 発表検索
講演詳細
造林部門[Silviculture]
日付 | 2025年3月22日 |
---|---|
開始時刻 | ポスター発表 |
会場名 | 学術交流会館(第一会議室) |
講演番号 | PE-42 |
発表題目 | スギ人工林内に植栽されたブナの成長に光環境が及ぼす影響 Effect of light environment on the growth of beech planted in a Japanese cedar forest. |
所属 | 新潟県森林研究所 |
要旨本文 | 多雪地域では、雪害等により林業経営に不利な状態で成林するスギ人工林がみられる。そのような人工林は、管理コストの低い針広混交林や広葉樹林へ誘導し、多面的機能の発揮を図ることが目標とされているが、天然更新では不確実性を伴うことから、長期経過観察とそれに基づく対応が必要となることが既往研究で指摘されている。そこで、効率的な更新方法の確立を目的として、多雪地の主要樹種であるブナについて、スギ人工林内での樹下植栽の有効性を検証した。新潟県糸魚川市内の84年生スギ人工林に、2013年の植樹イベントにより樹下植栽されたブナを対象として、2018~2023年まで毎木調査(樹幹長、地際直径等)を実施した。併せて、2021年7月に、光量子センサーを用いたブナ植栽位置の光環境調査を実施した。その結果、2023年(11年生)時点で平均樹幹長248cm、年平均成長量は約15cmとなり、相対光量子束密度(rPPFD)が平均5%程度の暗環境下でも伸長成長することが確認された。また、2021年(9年生)時点での樹幹長が長く、rPPFDが大きいほど、翌2022年(10年生)の樹幹伸長量が大きくなる傾向が確認された。以上から、スギ人工林内でのブナ樹下植栽の有効性が示唆された。 |
著者氏名 | ○伊藤幸介 ・ 塚原雅美 ・ 田中樹己 |
著者所属 | 新潟県森林研究所 |
キーワード | ブナ, 樹下植栽, 前更作業, 相対光量子束密度 |
Key word | Japanese beech, underplanting, preregeneration system, relative photosynthetically active photon flux density |